电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子（精选9篇）由网友“Amanda”投稿提供，以下是小编为大家汇总后的电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子，希望能够帮助到大家。
篇1：电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子
电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混合液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PET模板.讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响.结果表明:随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的'增加,PET基膜更易被腐蚀.IR、DSC测量结果表明:辐照导致化学键的断裂、非晶化转变,是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因.用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板.
作 者：郝旭峰 周瑞敏 吴新锋 周菲 邓邦俊 费舜廷 HAO Xufeng ZHOU Ruimin WU Xinfeng ZHOU Fei DENG Bangjun FEI Shunting 作者单位：上海大学射线应用研究所,上海,00 刊 名：核技术 ISTIC PKU英文刊名：NUCLEAR TECHNIQUES 年，卷(期)： 30(11) 分类号：O633.14 O571.33 Q691.2 关键词：模板 PET 掩膜 电子束蚀刻 腐蚀篇2：二维金纳米微粒有序阵列的制备
二维金纳米微粒有序阵列的制备
对于用十二烷基硫醇包覆的金纳米微粒,用Langmuir-Blodgett(LB)技术制备了二维金纳米微粒有序阵列.在单纯的硫醇包覆的金纳米微粒形成的LB膜中,由于硫醇分子之间的疏水相互作用,容易导致金纳米微粒的`自组织而在LB膜中形成缺陷.为了改善金纳米微粒的成膜性能和提高金纳米微粒阵列的有序性,正十二醇作为添加剂和润滑剂加入到金纳米微粒的氯仿溶液中与金纳米微粒一起形成LB膜.用透射电子显微镜对金纳米微粒的二维阵列进行了表征.结果表明,正十二醇的加入可以有效地减少用LB技术制备的二维金纳米微粒阵列中的缺陷,提高金纳米微粒阵列的有序性.
作 者：廖建辉 吴仲岿 葛存旺 虞伟 徐丽娜 陈坤基 顾宁 作者单位：廖建辉,葛存旺,虞伟,徐丽娜,顾宁(东南大学分子与生物分子电子学实验室,南京,210096)吴仲岿(南京大学介观材料与化学实验室,南京,210008)
陈坤基(南京大学固体微结构物理实验室,南京,210008)
刊 名：东南大学学报(自然科学版) ISTIC EI PKU英文刊名：JOURNAL OF SOUTHEAST UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE EDITION) 年，卷(期)： 33(4) 分类号：O469 关键词：纳米微粒 阵列 LB技术 二维篇3：纳米Hg2Cl2/Al2O3有序阵列体系的制备和表征
纳米Hg2Cl2/Al2O3有序阵列体系的制备和表征
纳米结构材料由于其独特的物理化学性质以及在微电子器件、光开关等方面的'应用而备受关注. 多孔氧化铝由于具有孔径分布较窄、取向一致和孔密度高等优点而广泛用于模板制备纳米结构材料. 在多孔氧化铝中可以组装金属纳米粒子[1]、半导体纳米粒子[2]、导电高分子[3]以及碳纳米管[4]等.
作 者：王银海 牟季美 蔡维理 姚连增 刘艳美 作者单位：王银海,刘艳美(安徽大学物理系,合肥,230039)牟季美,蔡维理,姚连增(中国科学技术大学材料科学与工程系,合肥,230026)
刊 名：高等学校化学学报 ISTIC SCI PKU英文刊名：CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES 年，卷(期)： 23(7) 分类号：O614.24 O612.7 关键词：模板合成 甘汞 有序阵列 电沉积篇4：低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究
低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究
本文提出了一种新颖的结合自组装技术和电子束直写曝光以及选择性化学沉积制备图案化薄膜方法.利用X-射线光电子能谱(XPS),扫描电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM)紫外可见光谱仪(Analytic Jena AG)进行了表征.结果表明该方法取得了选择性较好的图案化金薄膜微结构图形.文中对胶体金纳米颗粒尺寸的选择以及金薄膜图案的粘附性能也进行了探讨.该方法有望应用于微/纳电子工业中.
作 者：陈炯枢 陈学康 刘相 刘建喜 CHEN Jiong-shu CHEN Xue-kang LIU Xiang LIU Jian-xi 作者单位：陈炯枢,陈学康,CHEN Jiong-shu,CHEN Xue-kang(兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000)刘相,刘建喜,LIU Xiang,LIU Jian-xi(中科院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000)
刊 名：真空 ISTIC PKU英文刊名：VACUUM 年，卷(期)： 44(6) 分类号：O484 TB43 关键词：电子束直写曝光 选择性化学沉积 图案化篇5：以多孔氧化铝为钴纳米线阵列的制备
以多孔氧化铝为模板钴纳米线阵列的制备
以多孔氧化铝为模板,采用交流电沉积的方法制备了钴纳米线阵列膜.采用扫描电子显微镜(SEM)对电沉积钴纳米线前后的`多孔氧化铝模板的形貌进行表征,通过透射电子显微镜(TElM)观察钴纳米线的表面形貌.结果表明:金属钴沉积到多孑L氧化铝模板的纳米孑L中,钴纳米线的平均直径约为50n/n,与氧化铝模板的孔径相一致.
作 者：梁淑敏 LIANG Shu-min 作者单位：黑龙江省公安警官职业学院,公安科技系,黑龙江,哈尔滨,150025 刊 名：化学工程师 ISTIC英文刊名：CHEMICAL ENGINEER 年，卷(期)： 22(9) 分类号：O646 关键词：钴纳米线阵列 多孔氧化铝模板 交流电沉积 纳米材料篇6：镍有序纳米孔洞阵列厚膜的制备和表征
镍有序纳米孔洞阵列厚膜的制备和表征
以阳极氧化铝为模板,通过两步复型的方法,制备了金属镍的有序纳米孔洞阵列厚膜.镍膜的孔道彼此平行,呈六角排列,孔径约40 nm,孔洞间距80nm,孔密度约1011个/cm2.
作 者：许彦旗 蔡维理 王银海 牟季美 作者单位：中国科技大学材料科学与工程系, 刊 名：物理化学学报 ISTIC SCI PKU英文刊名：ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA 年，卷(期)： 17(11) 分类号：O64 关键词：阳极氧化 两步复型 厚膜模板 镍篇7：水热法大面积制备TiO2纳米棒阵列薄膜
水热法大面积制备TiO2纳米棒阵列薄膜
TiCl3饱和NaCl溶液中采用外加添加剂尿素的`新技术,于一定条件下用水热法在玻璃基板上制备出大面积TiO2纳米棒阵列薄膜.研究了尿素含量、反应温度、反应时间和TiCl3起始浓度对产物的影响,并讨论了反应机理.
作 者：张一兵 封心建 江雷 ZHANG Yibing FENG Xinjian JIANG Lei 作者单位：张一兵,ZHANG Yibing(江西上饶师范学院,上饶,334001;国家纳米科学中心,北京,100080)封心建,FENG Xinjian(中科院化学研究所,北京,100080)
江雷,JIANG Lei(国家纳米科学中心,北京,100080;中科院化学研究所,北京,100080)
刊 名：材料导报 ISTIC PKU英文刊名：MATERIALS REVIEW 年，卷(期)： 21(2) 分类号：O6 关键词：TiO2 纳米棒阵列 薄膜 水热法 制备篇8：金属掺杂多孔硅薄膜的制备及荧光光谱研究
金属掺杂多孔硅薄膜的制备及荧光光谱研究
用电化学方法对多孔硅薄膜进行了金属掺杂.用荧光分光光度计分析了样品的光致发光特性,结果表明,适量的金属掺杂增强了多孔硅的红光发射,氧化性金属掺杂还增强了多孔硅的蓝光发射,还原性金属掺杂却无此现象.红外吸收谱表明,金属掺杂多孔硅后Si-O-Si键振动增强.XRD谱表明,氧化性金属掺杂后多孔硅的无定形程度增强.对分析结果的.解释为:红光增强是金属掺杂引入新的缺陷和硅、氧、金属间新的键态Si-Metal,Metal-O,Metal-Metal所致,而蓝光增强是无定形程度增强,应力增大和进一步氧化所致.
作 者：孙小菁 马书懿 魏晋军 徐小丽 SUN Xiao-jing MA Shu-yi WEI Jin-jun XU Xiao-li 作者单位：西北师范大学,物理与电子工程学院,甘肃,兰州,730070 刊 名：西北师范大学学报（自然科学版） ISTIC PKU英文刊名：JOURNAL OF NORTHWEST NORMAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年，卷(期)：2007 43(6) 分类号：O469 TB383 关键词：金属掺杂多孔硅 电化学 光致发光 X射线衍射 红外吸收篇9：常压下低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的制备
常压下低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的制备
以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过酸/碱二步法控制实验条件,结合低表面张力溶剂替换以及甲基非活性基团置换修饰、超声振荡等,在常压下成功地制备出折射率在1.11～1.27范围内的二氧化硅纳米多孔光学薄膜.制备过程中充分注意到稀释、老化、有机修饰表面、热处理和提拉条件对薄膜都有很大的影响,利用这些因素可以对该纳米薄膜的孔洞率、折射率进行控制,尤其是能制备低折射率薄膜,从而为该薄膜的应用开发奠定基础.采用椭偏仪测量薄膜的厚度和折射率,薄膜中高的孔洞率、低的折射率归结于最终干燥阶段中的`弹性回跳.扫描电镜(SEM)观察发现修饰薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构.耐磨实验表明所制备的薄膜有良好的机械性能.
作 者：姚兰芳 沈军 吴广明 王珏 作者单位：姚兰芳(同济大学,波耳固体物理研究所,上海,200092;上海理工大学,物理系,上海,200093)沈军,吴广明,王珏(同济大学,波耳固体物理研究所,上海,200092)
刊 名：同济大学学报(自然科学版) ISTIC EI PKU英文刊名：JOURNAL OF TONGJI UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年，卷(期)：2003 31(9) 分类号：O469 关键词：低折射率薄膜 溶胶-凝胶 表面修饰 常压★ 纳米材料论文
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